光刻機(jī)/封裝產(chǎn)線雙場景Chiller適配薄膜沉積等核心設(shè)備
407在光刻機(jī)與封裝產(chǎn)線雙場景下Chiller(溫控設(shè)備)需同時(shí)滿足光刻工藝溫控和封裝可靠性測試熱管理的嚴(yán)苛需求,尤其在薄膜沉積等核心設(shè)備中,其技術(shù)適配性體現(xiàn)在以下維度: 一、雙場景技術(shù)適配Chiller 1、光刻機(jī)場景...
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