SUDNI -45℃～+300℃

2022/05/13 制冷加熱控溫系統 3442

制冷加熱控溫系統的典型應用：高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；小型恒溫控制系統、蒸餾系統控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

制冷加熱控溫系統優點與功能：溫度范圍從-120℃至350℃，性能優越，高精度、智能型溫度控制。多功能報警系統和安全功能、7寸、10寸彩色TFT觸摸屏圖形顯示，采用磁力驅動泵，沒有軸封泄漏問題。高溫降溫技術，可以從300℃直接制冷降溫【因為只有膨脹腔體內的導熱介質才和空氣中的氧氣接觸（而且膨脹箱的溫度在常溫到60度之間），可以達到降低導熱介質被氧化和吸收空氣中水份的風險。

產品介紹詳細信息

廠家實力視頻：

生產車間面積超2.5萬㎡，公司現有員工340余人，其中研發技術人員占20%，公司現有廠房面積25000㎡，年產量5000臺，連續2年產值超3億。

產品應用

廣泛用于半導體、新材料、生物工程、航天工業、醫療、化工等行業；配微通道、真空設備、蒸餾系統、老化測試等

常見的配套設備有高壓反應釜、雙層玻璃反應釜、雙層反應釜、微通道反應器蒸餾結晶、半導體設備冷卻、材料老化、結晶系統控溫

結構原理及優勢

高溫時沒有導熱介質蒸發出來，而且不需要加壓的情況下就可以實現 -80～190℃、-70～220℃、-55～250℃連續控溫；

采用全密閉管道式設計，降低導熱液需求量的同時，提高系統的熱量利用率，達到快速升降溫度。膨脹容器中的導熱介質不參與循環，可以降低導熱介質在運行中吸收水分和揮發的風險

型號		SUNDI-555WV	SUNDI-575WV	SUNDI-5A10WV	SUNDI-5A15WV	SUNDI-5A25WV
介質溫度范圍		?-45℃～+300℃? (系統加壓3bar)
控制系統		前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器
溫控模式選擇		物料溫度控制與設備出口溫度控制模式可自由選擇
溫差控制		設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯		可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟
通信協議		MODBUS RTU 協議 ?RS 485接口
外接入溫度反饋		PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100)
溫度反饋		設備導熱介質進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度
導熱介質溫控精度		±0.5℃
反應物料溫控精度		±1℃
加熱功率 kW		5.5	7.5	10	15	25
制冷量?kW ?AT	250℃	5.5	7.5	10	15	25
	100℃	5.5	7.5	10	15	25
	20℃	5.5	7.5	10	15	25
	0℃	5	7	10	15	25
	-20℃	2.9	4.2	6	11	16
	-40℃	0.9	1.5	2	3.8	4.7
流量壓力 max????? L/min bar		35	50	60	110	150
		1.2	1.2	1.5	1.5	2.5
循環泵		冠亞磁力驅動泵
壓縮機		艾默生/丹佛斯渦旋柔性壓縮機
節流方式		電子膨脹閥
蒸發器		板式換熱器
操作面板		7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄
安全防護		具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環系統		整個系統為全密閉系統，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。
制冷劑		R-404A/R507C
接口尺寸		ZG3/4	ZG1	ZG1	ZG1	DN32 PN10
水冷型 W 溫度 20度		1500L/H 1.5bar~4bar ZG3/4	1800L/H 1.5bar~4bar ZG3/4	2600L/H 1.5bar~4bar ZG1	3200L/H 1.5bar~5bar ZG1	7m3/H 1.5bar~4bar DN40
外形尺寸 cm		5570175	5570175	6585190	6585190	80120185
常規重量kg		245	285	320	360	420
電源 380V 50HZ		9kW max	11.5kW max	16kW max	23kW max	37kW max
外殼材質		冷軋板噴塑（標準顏色7035）
選配		可選配以太網接口，配置電腦操作軟件
選配		選配外置觸摸屏控制器，通信線距離10M
選配電源		100V 50HZ單相，110V 60HZ 單相，230V 60HZ 單相， 220V 60HZ 三相，440V～460V 60HZ 三相
選配		加熱功率25kW以內sundi系列可選配介質控溫精度士0.1℃，物料控溫精度±0.1℃