廣泛運(yùn)用在半導(dǎo)體制程中對反應(yīng)腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質(zhì) 不可燃流體控溫場所，適用于半導(dǎo)體芯... FLTZ-80℃～+90℃ 詳細(xì)信息
廣泛運(yùn)用在半導(dǎo)體制程中對反應(yīng)腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質(zhì) 不可燃流體控溫場所，適用于半導(dǎo)體芯... FLTZ-100℃～+90℃ 詳細(xì)信息
廣泛運(yùn)用在半導(dǎo)體制程中對反應(yīng)腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質(zhì) 不可燃流體控溫場所，適用于半導(dǎo)體芯... FLTZ -45℃～90℃ 詳細(xì)信息
無錫冠亞專業(yè)生產(chǎn)研發(fā)加熱系統(tǒng)，控溫范圍50度到300度，適用于制藥、化工企業(yè)各項工藝生產(chǎn)、實(shí)驗(yàn)使用的需... UC +10℃～+300℃ 詳細(xì)信息
無錫冠亞專業(yè)生產(chǎn)研發(fā)加熱系統(tǒng)，控溫范圍50度到300度，適用于制藥、化工企業(yè)各項工藝生產(chǎn)、實(shí)驗(yàn)使用的需... UC +10℃～+170℃ 詳細(xì)信息
無錫冠亞制冷加熱循環(huán)器可實(shí)現(xiàn)-45度到250度動態(tài)控溫，同時具備加熱制冷功能，帶2個LED顯示控制器，可以... HRT -45℃～+250℃ 詳細(xì)信息
針對微通道反應(yīng)器持液量少換熱能力強(qiáng)、循環(huán)系統(tǒng)壓降大特點(diǎn)專門設(shè)計開發(fā)。優(yōu)化溫度采樣及響應(yīng)速度,專門設(shè)... WTD -70°C～200°C 詳細(xì)信息
針對微通道反應(yīng)器持液量少換熱能力強(qiáng)、循環(huán)系統(tǒng)壓降大特點(diǎn)專門設(shè)計開發(fā)。優(yōu)化溫度采樣及響應(yīng)速度,專門設(shè)... WTD -45°C～250°C?? 雙溫區(qū) 詳細(xì)信息
針對微通道反應(yīng)器持液量少換熱能力強(qiáng)、循環(huán)系統(tǒng)壓降大特點(diǎn)專門設(shè)計開發(fā)。優(yōu)化溫度采樣及響應(yīng)速度,專門設(shè)... WTD -70°C～300°C 詳細(xì)信息
高精度高低溫控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、... TES -60℃～200℃ 詳細(xì)信息
高精度高低溫控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、... TES -85℃～200℃ 詳細(xì)信息
高精度高低溫控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、... TES?-45℃～250℃ 詳細(xì)信息
加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應(yīng)... UST +10℃～+300℃ 詳細(xì)信息
制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層... SUNDI?-100℃～+100℃ 詳細(xì)信息
制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層... SUNDI?-90℃～+250℃ 詳細(xì)信息
制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層... SUNDI -80℃～+250℃ 詳細(xì)信息
制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層... SUNDIZ -80℃～+250℃ 詳細(xì)信息
制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層... SUNDI -60℃～+250℃ 詳細(xì)信息
制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層... SUNDIZ -45℃～+250℃ 詳細(xì)信息
制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層... ?SUNDI -45℃～+250℃ 詳細(xì)信息
制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層... SUNDI -25℃～+200℃(可以擴(kuò)展到-25℃～+300℃） 詳細(xì)信息
制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層... SUNDI -25℃~+200℃ 詳細(xì)信息
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